ZC209-4D 温控器半导体Chiller冰水机主要用于半导体（FAB）和FPD显示制程中工艺设备的温度精准控制，如刻蚀/薄膜/匀胶/显影等工艺设备的控温（例如LAM, AMAT, TEL, NAURA，Naura, Aixtron, Veeco, AMEC等）。 SEMI Chiller温控器主要由液泵、换热器、储液罐、制冷压缩机及控制系统组成的工艺过程中的温控设备。

ZC209-4D 温控器半导体Chiller主要用于半导体（FAB）和FPD显示制程中工艺设备的温度精准控制，如刻蚀/薄膜/匀胶/显影等工艺设备的控温（例如LAM, AMAT, TEL, NAURA，Naura, Aixtron, Veeco, AMEC等）。 SEMI Chiller温控器主要由液泵、换热器、储液罐、制冷压缩机及控制系统组成的工艺过程中的温控设备。

ZC209-4D 温控器chiller主要用于半导体（FAB）和FPD显示制程中工艺设备的温度精准控制，如刻蚀/薄膜/匀胶/显影等工艺设备的控温（例如LAM, AMAT, TEL, NAURA，Naura, Aixtron, Veeco, AMEC等）。 SEMI Chiller温控器主要由液泵、换热器、储液罐、制冷压缩机及控制系统组成的工艺过程中的温控设备。

SEMI Chiller温控器精密冷水机冰水机主要用于半导体（FAB）和FPD显示制程中工艺设备的温度精准控制，如刻蚀/薄膜/匀胶/显影等工艺设备的控温（例如LAM, AMAT, TEL, NAURA，Naura, Aixtron, Veeco, AMEC等）。 SEMI Chiller温控器主要由液泵、换热器、储液罐、制冷压缩机及控制系统组成的工艺过程中的温控设备。

SEMI Chiller温控器精密冷水机主要用于半导体（FAB）和FPD显示制程中工艺设备的温度精准控制，如刻蚀/薄膜/匀胶/显影等工艺设备的控温（例如LAM, AMAT, TEL, NAURA，Naura, Aixtron, Veeco, AMEC等）。 SEMI Chiller温控器主要由液泵、换热器、储液罐、制冷压缩机及控制系统组成的工艺过程中的温控设备。

SEMI Chiller温控器半导体工艺冰水机主要用于半导体（FAB）和FPD显示制程中工艺设备的温度精准控制，如刻蚀/薄膜/匀胶/显影等工艺设备的控温（例如LAM, AMAT, TEL, NAURA，Naura, Aixtron, Veeco, AMEC等）。 SEMI Chiller温控器主要由液泵、换热器、储液罐、制冷压缩机及控制系统组成的工艺过程中的温控设备。