ZC209精密冷水机chiller Chiller ZC209是一台对循环液进行温度控 制并输出冷热液的装置。具有温度稳定性 高、温度范围广、故障自诊断、外部通信 等丰富功能。采用优良的制冷及温度控制 技术，具有广泛的温度范围： -20℃ 至+90℃,在半导体制作过程/激光加工机 /分析装置/LCD制造装置/金属模具温控等 行业用途广泛。

ZC209三温液冷机chiller Chiller ZC209是一台对循环液进行温度控 制并输出冷热液的装置。具有温度稳定性 高、温度范围广、故障自诊断、外部通信 等丰富功能。采用优良的制冷及温度控制 技术，具有广泛的温度范围： -20℃ 至+90℃,在半导体制作过程/激光加工机 /分析装置/LCD制造装置/金属模具温控等 行业用途广泛。

半导体温控装置Chiller SEMI Chiller温控器主要用于半导体（FAB）和FPD显示制程中工艺设备的温度精准控制，如刻蚀/薄膜/匀胶/显影等工艺设备的控温（例如LAM, AMAT, TEL, NAURA，Naura, Aixtron, Veeco, AMEC等）。

半导体Chiller 冰水机 SEMI Chiller温控器主要用于半导体（FAB）和FPD显示制程中工艺设备的温度精准控制，如刻蚀/薄膜/匀胶/显影等工艺设备的控温（例如LAM, AMAT, TEL, NAURA，Naura, Aixtron, Veeco, AMEC等）。

ZH80liquid chiller SEMI Chiller温控器主要用于半导体（FAB）和FPD显示制程中工艺设备的温度精准控制，如刻蚀/薄膜/匀胶/显影等工艺设备的控温（例如LAM, AMAT, TEL, NAURA，Naura, Aixtron, Veeco, AMEC等）。

ZH80 温控器半导体工艺冰水机Chiller SEMI Chiller温控器主要用于半导体（FAB）和FPD显示制程中工艺设备的温度精准控制，如刻蚀/薄膜/匀胶/显影等工艺设备的控温（例如LAM, AMAT, TEL, NAURA，Naura, Aixtron, Veeco, AMEC等）。